光刻機(jī)又名掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機(jī)是掩膜對(duì)準(zhǔn)光刻。簡(jiǎn)單地說(shuō)，光刻機(jī)是制造芯片不可缺少的工具，沒(méi)有光刻機(jī)，就沒(méi)有芯片。

　　無(wú)論是手機(jī)的移動(dòng)處理器還是電腦的桌面處理器，都是芯片的一種形式。現(xiàn)代社會(huì)的生產(chǎn)制造已經(jīng)離不開(kāi)芯片，所以能制造芯片的光刻機(jī)的重要性不言而喻。

　　光刻是指在硅表面蓋上高光敏感性光刻粘合劑，用光線(通常是紫外線、深紫外線、極紫外線)通過(guò)口罩照射至硅表面，使光線照射的光刻粘合劑反應(yīng)的方式工作。

　　光刻完成后，在沒(méi)有光刻塑料保護(hù)的情況下蝕刻硅部分，然后沖洗其余的光刻粘合劑，就可以實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體部件構(gòu)建在硅表面的過(guò)程。

　　光刻機(jī)的工作原理似乎不太復(fù)雜，但實(shí)際上需要非常困難和非常強(qiáng)大的光刻技術(shù)，掌握世界上強(qiáng)大的光刻技術(shù)。

　　在全球45納米以下的光刻機(jī)市場(chǎng)占有80%的份額，目前只有全球能夠生產(chǎn)7納米精度光刻機(jī)。聽(tīng)各大手機(jī)廠商宣傳說(shuō)自己的芯片采用的是10nm技術(shù)或者是7nm技術(shù)說(shuō)的其實(shí)就是用哪一個(gè)精度的光刻機(jī)。

　　光刻機(jī)是時(shí)間、技術(shù)、財(cái)力多方面積累起來(lái)的科技產(chǎn)物，國(guó)家致力于研發(fā)也需要時(shí)間。

　　通過(guò)資源整合和技術(shù)開(kāi)發(fā)，現(xiàn)在具備了量產(chǎn)14納米精度光刻機(jī)的技術(shù)。但是客觀來(lái)看，14nm和7nm還差很多。

　　幸運(yùn)的是，這一差距正在迅速縮小。從突破到量產(chǎn)還需要時(shí)間。